料金表 (2021年4月1日更新）

■微細構造解析プラットフォーム（装置所属別）
金属材料研究所・先端電子顕微鏡センター/ 分析研究コア/ 金属材料研究所/ 理学研究科

■微細加工プラットフォーム
試作コインランドリ(MEMS)

微細構造解析プラットフォーム（所属：金属材料研究所・先端電子顕微鏡センター）
■技術支援 （3,300円/時間）※公開・非公開同料金
■解析支援 （3,300円/時間）
■試料作製準備室使用料 （330円/時間）
利用料【円/日(8時間)】
装置名
ナノPF(微細構造解析)
成果公開
成果非公開
走査型電子顕微鏡(SU8000,S-5500)
 14,080 72,160
高性能分析電顕(Titan80-300 結像系収差補正)
 36,080 106,480
プローブコレクター透過電顕(FEI-Titan G2-cubed)
 46,640 121,440
ダブルコレクター透過電顕(FEI-Titan G2-cubed)
 50,160 125,860
※使用料においては先端電子顕微鏡センターの利用規程に従います。使用単位は（1日あたり）8時間です。
※技術支援、解析支援については都度見積・相談によります。
※表示は税込み価格です。

微細構造解析プラットフォーム（所属：金属材料研究所材料分析研究コア）
■技術支援 （公開：3,300円/時間　非公開：6,600円/時間）
■試料作製準備室使用料 （880円/4時間）
■FIB試料用Moグリッド(Cuより差額) （1,320円/1個）
■FIB試料用Siグリッド　ナノメッシュ(Cuより差額) （2,640円/1個）
利用料【円/日(8時間)】　
装置名
ナノPF
(微細構造解析)
成果公開
成果非公開
原子分解能分析電顕（JEM-ARM200F 結像/照射系補正)
 30,800 163,680
分析電子顕微鏡(Topcon EM-002B) 25,520 51,920
透過電子顕微鏡 (JEOL JEM-2000EXⅡ) 16,720 34,320
FIB-SEM加工観察装置(Quanta 3D)
 30,360 62,920
FIB-SEM加工観察装置(Versa 3D)
 30,360 62,920
薄膜断面試料作製装置 (JEOL EM-09100IS) 17,600 32,560
イオンミリング装置（PIPSⅡ） 9,680 22,880
イオンミリング装置（Model1010) 3,520 13,200
高出力全自動水平型多目的X線回折装置 6,160 32,560
熱分析装置
 5,280 12,320
※使用料においては分析研究コアの利用規程に従います。
　上記は1日あたり（8時間）の料金ですが、時間単位でも使用可能です。
※初習者の単独使用はできません。観察代行・もしくは立会観察をご依頼ください。
※薄膜断面試料作製装置の料金は、前処理（予備加工）済みの試料を持込、当室でイオン研磨加工のみを行った場合の料金になります。
※表示は税込み価格です。

微細構造解析プラットフォーム　（所属：理学研究科附属巨大分子解析研究センター）
利用料【円/時間】
装置
ナノPF(微細構造解析)
成果公開
成果非公開
核磁気共鳴装置（800MHz　NMR JNM-ECA 800）
 5,200 32,100
ICP発光分光分析装置（ICPE-9000）
 3,200 4,600
※利用形態は技術代行のみです。
※消耗品はご利用者様にご用意して頂きます。
※表示は税抜価格です。

微細加工プラットフォーム(MEMS)
成果公開の場合 ■技術支援料 3,300円/時間　■施設使用料　960円/時間（学内は790円/時間）　
成果非公開の場合 ■技術支援料 6,514円/時間　■施設使用料　960円/時間（学内は790円/時間）

装置一覧及び料金表ダウンロード　（こちら）　　　　　　　　　　　　　　※2021/4/1更新
番号
装置名
 公開
利用料
円/時間
非公開
利用料
円/時間
番号
装置名
 公開
利用料
円/時間
非公開
利用料
円/時間
A.洗浄・乾燥
A-1
エッチングチャンバー
1,290 1,548
A-7
スピン乾燥機
2,428 2,914
A-2
リン酸槽
1,730 2,076
A-8
有機ドラフトチャンバー
 1,290 1,548
A-4
イナートオーブン（シンター炉）
1,710 2,052
A-9
4"スピン乾燥機
2,612 3,134
A-5
真空オーブン
994 1,192
A-10
6"スピン乾燥機
 2,612 3,134
A-6
ブラシスクラバ
 6,906 8,286        
B.フォトリソグラフィ
B-2
スピンコータ
2,170 2,604
B-13
エリオニクス EB描画装置
9,422 11,306
B-3
クリーンオーブン
2,830 3,396
B-14
レーザ描画装置
 7,094 8,512
B-4
ポリイミドキュア炉
1,872 2,246
B-15
球面露光装置
 4,450 5,340
B-5
両面アライナ
3,240 3,888
B-16
スピン乾燥機
 2,208 2,650
B-8
現像ドラフト
1,290 1,548
B-17
ホットプレート
 994 1,192
B-9
UV キュア装置
4,120 4,944 B-18 マスクレスアライナ 5,374 6,450
B-10
スピンコータ
 2,332 2,798 B-19 i線ステッパ 14,960 29,700
B-11
スプレー現像装置
2,156 2,588 B-20 コータデベロッパ 6,458 13,200
C.酸化拡散・イオン注入・熱処理
C-1
酸化炉（半導体用）
10,598 12,716
C-7
アニール炉
 10,112 12,134
C-2
酸化炉（MEMS用）
 9,168 11,000
C-8
中電流イオン注入装置
19,934 23,922
C-3
P拡散炉
11,562 13,874
C-10
ランプアニール装置
 8,522 10,226
C-4
P押し込み炉
9,854 11,824
C-11
メタル拡散炉
 7,856 9,426
C-5
B拡散炉
10,938 13,126        
C-6
B押し込み炉
9,854 11,824       
D.成膜
D-1
LPCVD（SiN）
12,108 14,530
D-12
MOCVD
 19,484 23,382
D-2
LPCVD（Poly-Si）
 11,838 14,206
D-13
JPEL PECVD
 15,156 18,188
D-3
LPCVD（SiO2）
12,808 15,368
D-14
住友精密TEOS PECVD
 16,904 20,286
D-4
熱CVD
21,326 25,590
D-15
自動搬送　芝浦スパッタ装置
 6,524 7,828
D-5
住友精密PECVD
15,350 18,420
D-16
球面成膜用スパッタ装置
 4,392 5,270
D-6
W-CVD
9,818 11,782
D-17
多元材料原子層堆積(ALD)装置
 10,418 12,502
D-7
アネルバスパッタ装置
8,588 10,306
D-18
酸素加圧RTA付高温スパッタ装置
 11,698 14,038
D-8
芝浦スパッタ装置
3,758 4,510
D-19
アネルバマルチスパッタ
6,118 7,340
D-9
電子ビーム蒸着装置
6,838 8,206
D-20
 ECRロングスロースパッタ 6,450 7,740
D-10
ゾルゲル自動成膜装置
8,066 9,680
D-21
 SPPテクノロジーズ TEOS PECVD 16,770 21,507
D-11
めっき装置
2,546 3,056        
E.エッチング
E-1
DeepRIE装置#1
8,054 9,666
E-12
TMAHエッチング槽
 3,112 3,734
E-2
DeepRIE装置#2
8,054 9,666
E-13
DeepRIE装置#4
 14,770 17,724
E-3
DeepRIE装置#3
8,278 9,934
E-14
イオンミリング装置
 11,360 13,632
E-4
アネルバRIE装置
7,078 8,494
E-15
DeepRIE装置#4
 8,534 10,240
E-5
アネルバSi RIE装置
 6,346 7,616
E-16
イオンミリング装置
 15,970 19,166
E-6
Al-RIE装置
11,912 14,294
E-17
ケミカルドライエッチャー（CDE)
 5,976 7,172
E-7
アルバック アッシング装置
4,066 4,880
E-18
プラズマクリーナー
 3,198 3,838
E-8
ブランソン アッシング装置
3,316 3,980
E-19
アルバックICP-RIE#2
15,684 18,820
E-10
アルバック多用途RIE装置
 10,902 13,082        
E-11
KOHエッチング槽
 3,100 3,722        
F.接合・研磨・パッケージング
F-1
ウェハ接合装置
5,946 7,134
F-9
ＥＶＧ　ウェハ接合装置
 6,112 7,336
F-2
東京精密 ダイサ
9,656 11,588
F-10
ＥＶＧ　ウェハ接合用アライナ
 5,302 6,362
F-3
ディスコ ダイサ
2,646 3,176
F-11
UVインプリント装置
 6,638 7,964
F-4
ワイヤボンダ
1,186 1,424
F-12
熱インプリント装置
 5,900 7,080
F-5
レーザマーカ
2,436 2,922
F-13
エキシマ洗浄装置
 2,700 3,240
F-6
6インチウェハ研磨装置
2,120 2,544
F-14
サーフェイスプレナー
 14,974 17,968
F-7
4インチウェハ研磨装置
1,822 2,186
F-16
EVG プラズマ活性化装置
 8,018 9,622
F-8
サンドブラスト
 3,418 4,102       
G.測定
G-1
ウェハゴミ検査装置
1,976 2,372
G-15
超音波顕微鏡
2,284 2,742
Ｇ-2
膜厚計
1,384 1,662
G-16
デジタルサーモ顕微鏡
1,248 1,496
G-3
Dektak 段差計
1,658 1,990
G-17
赤外線顕微鏡
 1,236 1,482
G-4
Tenchor 段差計
1,658 1,990
G-18
四重極質量分析装置
1,226 1,472
G-5
深さ測定装置
1,074 1,290
G-20
クイックコータ
1,338 1,606
G-6
4探針測定装置
1,076 1,290
G-22
卓上型エリプソ
 746 896
G-7
拡がり抵抗測定装置
2,616 3,140
G-24
レーザ/白色共焦点顕微鏡
 4,728 5,674
G-8
ウェハプローバ
2,666 3,198
G-25
直線集束ビーム超音波材料解析システム#1
 3,488 4,184
G-9
金属顕微鏡
1,152 1,382
G-26
直線集束ビーム超音波材料解析システム#2
 3,488 4,184
G-10
デジタル顕微鏡
1,540 1,848
G-27
 FIB 9,596 11,516
G-11
熱電子SEM
2,632 3,158
G-28
 XRD 5,154 6,184
G-12
FE-SEM
4,622 5,546
G-29
 JEOL FE-SEM 5,330 6,396
G-13
マイクロX線CT
3,324 3,988        
G-14
エリプソ
972 1,166        

※表示は税込価格です。
※2021/4/1更新